用热解化学气沉积法选择性生长金刚石薄膜的研究  

作　　者：于三[1] 金曾孙[1] 吕宪义[1] 邹广田[1] 

机构地区：[1]吉林大学原子与分子物理研究所,长春130023

出　　处：《科学通报》1991年第6期417-419,共3页Chinese Science Bulletin

摘　　要：一、引言 金刚石薄膜作为一种新型多功能材料,其制备和应用研究在近几年内取得了飞速的发展.目前,用各种化学气相沉积方法(CVD)合成的金刚石薄膜在一些领域内已取得了初步的应用.金刚石薄膜的选择性生长就是在衬底表面上按照所需图形生长金刚石薄膜。

关 键 词：金刚石 薄膜 化学气相沉积 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]