离子束溅射和离子辅助淀积DWDM滤光片的膜厚均匀性  

Uniformity of layer thickness of DWDM filters prepared by ion-beam sputtering and ion-assisted deposition

作　　者：顾培夫[1] 李海峰[1] 章岳光[1] 刘旭[1] 唐晋发[1] 

机构地区：[1]浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,杭州310027

出　　处：《光学技术》2001年第5期410-412,共3页Optical Technique

摘　　要：用离子束溅射和离子辅助淀积技术制备DWDM滤光片的关键问题是必须获得优良的膜层厚度均匀性。采用实验修正膜层厚度修正板的办法获得了较好的均匀性分布 ,给出了实验配置、实验方法和实验结果 。The uniformity of layer thickness of DWDM filters is a key point. An excellent uniformity distribution is achieved by means of using a thickness trimming mask. Experimental setup, method and results of uniformity of layer thickness are presellted and discussed.

关 键 词：离子束溅射 DWDM滤光片 厚度均匀性 离子辅助沉积 光学薄膜 

分 类 号：TN929.11[电子电信—通信与信息系统] O484.41[电子电信—信息与通信工程]