微细线条加工中光刻精度的保证  被引量:1

Guarantee for Lithographic Accuracy of Processing Superfine Line

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作  者:陈东石[1] 王冬梅[1] 路海林[1] 

机构地区:[1]东北微电子研究所,沈阳110032

出  处:《微处理机》2002年第2期23-26,共4页Microprocessors

摘  要:论述了光刻在集成电路生产中的重要性 ,讨论了各种行之有效的光刻精度的保证方法 。It discusses not only the importance of lithographic accuracy at IC process but also the effective guarantee ways of lithographic accuracy.Becides,it analyze the more ways which can improve lithographic accuracy.

关 键 词:微细线条加工 光刻精度 光刻胶 超大规模集成电路 制造工艺 

分 类 号:TN47[电子电信—微电子学与固体电子学]

 

参考文献:

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引证文献:

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