LIGA技术X光深层光刻工艺研究  

作　　者：陈迪[1] 伊福廷[1] 等 

机构地区：[1]上海交通大学信息存储研究中心微米／纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术国家教委部门开放研究实验室

出　　处：《同步辐射装置用户科技论文集》2000年第1期264-268,共5页

摘　　要：通过在北京高能所3W1束线上进行的X光深层光刻工艺研究，获得了侧壁光滑、陡直、厚度达100μm，深宽楷比达20的光刻胶和金属微结构，表明该光束线适用于LIGA技术的研究。

关 键 词：LIGA技术 X光深层光刻工艺 曝光条件 微加工技术 微型机电系统 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]