基片温度对Cr薄膜微结构和力学性能的影响  

Influence of substrate temperature on the microstructure and mechanical properties of Cr thin film

作　　者：劳技军[1] 韩增虎[1] 胡晓萍[1] 李戈扬[1] 杨春生[2] 

机构地区：[1]上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海200030 [2]上海交通大学薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海200030

出　　处：《电子显微学报》2002年第5期639-640,共2页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

基　　金：973计划资助项目 (No .G19990 3 3 10 3 )

关 键 词：基片温度 Cr薄膜 微结构 力学性能 铬薄膜 生长速率 磁控溅射 电子显微分析 

分 类 号：TB383[一般工业技术—材料科学与工程]