基于广义椭偏仪的纳米结构测量理论与方法研究  

作　　者：陈修国[1] 刘世元[1] 

机构地区：[1]华中科技大学

出　　处：《机械工程学报》2015年第10期7-7,共1页Journal of Mechanical Engineering

摘　　要：纳米制造是指产品特征尺寸为纳米量级的制造技术。为了实现纳米制造工艺的可操纵性、可预测性、可重复性和可扩展性,保证基于纳米科技的产品满足可靠性、一致性、经济性及规模化生产等多方面的要求,在纳米制造过程中对纳米结构的几何特征参数进行快速、低成本、非破坏性的精确测量具有重要的意义。尽管扫描电子显微镜和原子力显微镜都可以满足纳米级尺度的测量要求,但其显著缺点是速度慢、成本高、设备操作复杂、难以实现在线集成测量。与之相比,光学散射测量技术,由于其本身具有的快速、低成本、非破坏性和易于集成等优点,因而在先进工艺监测与优化领域获得了广泛的应用。

关 键 词：椭偏仪 原子力显微镜 可操纵性 可重复性 测量技术 制造工艺 特征参数 扫描电子显微镜 制造过程 可扩展性 

分 类 号：TB383[一般工业技术—材料科学与工程]