椭偏仪

作品数：133被引量：367H指数：10
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广义椭偏仪双补偿器任意比例旋转控制系统被引量：1
《探测与控制学报》2024年第2期125-130,共6页谢大洋 刘政杰 薛鹏 张瑞 
国家自然基金项目(62105302);山西省基础研究计划项目(20210302124269)。
针对目前广义椭偏仪双旋转补偿器控制旋转比例单一的问题,提出一套基于STM32单片机与步进电机的广义椭偏仪双补偿器任意比例旋转控制系统。该系统采用STM32F1单片机进行编程控制两个步进电机旋转的基础速度、速度比、旋转光学周期数,并...
关键词：广义椭偏仪 双旋转补偿器 速度调控 控制系统 
椭偏仪在镀膜玻璃中的应用
《建筑玻璃与工业玻璃》2024年第1期13-16,共4页史国华 刘起英 王振 
0引言。椭圆偏振测量是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换现象,根据偏振状态的变化情况来研究材料光学性质的方法。其主要优势主要包括:应用范围广泛;对透明薄膜、吸收薄膜、多层薄膜和非晶态薄膜等均可测量;样...
关键词：偏振状态 椭偏仪 光学性质 镀膜玻璃 偏振光束 折射率 多层薄膜 无损检测 
单电机驱动广义椭偏仪变角结构设计与实现
《应用光学》2023年第3期507-512,共6页刘政杰 薛鹏 陈媛媛 刘燕霖 谢大洋 张瑞 
国家自然科学基金(62105302);山西省青年科学基金(20210302124269)。
针对目前常见广义椭偏仪变角结构多采用双电机驱动,且存在结构复杂、变角后光路存在偏离等问题,论文提出一种单电机驱动广义椭偏仪新的变角结构。该结构采用固定起偏臂,利用同步齿轮传动单电机驱动方式使载物台和检偏臂同步旋转,实现椭...
关键词：单电机驱动 广义椭偏仪 变角结构 同步齿轮 穆勒矩阵 
衬底温度对氢化非晶氧化硅(i-a-SiO_(x):H)钝化性能的影响研究
《真空科学与技术学报》2023年第4期361-366,共6页何玉平 
江西省教育厅科学技术项目(GJJ211925)。
本征氢化非晶氧化硅(i-a-SiO_(x):H)是a-Si:H/c-Si异质结太阳电池中重要的钝化材料之一。本文采用PECVD法研究不同沉积衬底温度下n-Cz-Si表面沉积i-a-SiO_(x):H的钝化性能,采用微波光电导(MW-PCD)和射频光电导(RF-PCD)两种方法测试硅片...
关键词：衬底温度 少子寿命 i-a-SiO_(x):H 钝化性能 椭偏仪 
多层微纳薄膜的高精度检测技术进展
《计测技术》2023年第1期58-69,共12页祝源浩 董佳琦 宋有建 胡明列 
广东省重点领域研发计划项目(2018B090944001)。
在半导体、机械加工等行业中广泛应用的多层微纳薄膜通常是由数个纳米厚度的单层膜叠加形成的,在其制造过程中,由于工艺条件所限,薄膜厚度的均匀性会出现误差,进而影响其性能。因此薄膜厚度的准确测量至关重要,亟需一种无损、高精度、...
关键词：多层薄膜 薄膜测量 椭偏仪 机器学习 
聚氧化乙烯固态电解质热循环结晶行为研究
《塑料工业》2022年第10期113-119,共7页樊林 刘学清 
湖北省教育厅团队创新项目(T201935)
为解决现有锂离子电池的安全性问题,固态电解质的研究备受关注。通过在聚氧化乙烯(PEO)中添加不同含量的双三氟甲烷磺酰亚胺锂(LiTFSI)并进行循环加热处理,利用穆勒矩阵椭偏仪(MME)监测PEO在加热和冷却过程中的薄膜厚度以及双折射的变化...
关键词：聚氧化乙烯 穆勒矩阵椭偏仪 双折射 结晶 
单波长中红外穆勒矩阵椭偏仪的设计、定标与测试被引量：5
《光学学报》2022年第18期95-102,共8页郑州 侯俊峰 
国家自然科学基金(11773040,11427901,11403047,11427803);中国科学院空间科学战略性先导科技专项(XDA15010800,XDA15320102);中国科学院仪器设备功能开发项目(116400CX03)。
随着科学家对探测精度的要求不断提高,探测设备的偏振精度愈显重要。如何精确测量元件及系统的偏振特性以优化并提高设备的偏振测量精度是一个关键问题。设计并建立了一套中红外穆勒矩阵椭偏仪,在12.32μm波长下,使用非线性拟合法和双...
关键词：测量 椭偏测量 中红外 穆勒矩阵 偏振测量 
基于穆勒椭偏的纳米薄膜厚度测量与溯源被引量：3
《微纳电子技术》2021年第12期1121-1127,共7页杜黎明 管钰晴 孔明 平少栋 谢张宁 雷李华 傅云霞 
国防技术基础科研项目(JSJL2019210B004);国家市场监督管理总局科技项目(2019MK016);上海市自然科学基金探索项目(21ZR1483100)。
基于双旋转补偿器穆勒矩阵椭偏仪系统的薄膜厚度测量方法,通过膜厚比对分析对椭偏仪进行能力认证,实现纳米薄膜的高精度测量研究。设计了一套复合型膜厚标准样片,采用多种仪器测量其膜厚并对测量结果进行有效比对,给出相应的不确定度评...
关键词：纳米计量 双旋转补偿器穆勒椭偏仪 复合型膜厚标准样片 纳米薄膜 量值溯源 
单电机驱动椭偏双补偿器旋转结构及系统控制被引量：6
《激光杂志》2021年第12期39-43,共5页林聪 张瑞 薛鹏 尚琰 刘政杰 徐跃 
山西省面上自然基金项目(No.201901D111158);山西省面上青年基金项目(No.201801D221211);山西省创新项目(No.2019L0530)。
针对目前双伺服电机控制补偿器旋转的椭偏测量技术中电机同步旋转控制复杂,且探测器同步信号触发采集困难、长时间运行稳定性差等缺点。提出一种基于单电机驱动的双相位补偿器旋转结构以及控制方法。该结构中与伺服电机连接的同步齿轮...
关键词：椭偏仪 穆勒矩阵 单电机驱动 双旋转补偿器 
聚焦位置对光谱椭偏仪膜厚测量的影响被引量：1
《半导体技术》2021年第10期819-823,共5页季鹏 杨乐 陈鲁 李成敏 张嵩 
深圳市科技计划资助项目(KQTD2016053116451329)。
膜厚测量是半导体芯片制备过程中的关键技术。介绍了工业级膜厚测量设备的工作原理和技术要求。以聚焦光谱椭偏仪为实验平台,在光学聚焦位置附近(±5μm范围),通过连续改变晶圆聚焦高度,定量测量了多个标准厚度热氧化硅薄膜样品的膜厚...
关键词：半导体芯片 膜厚测量 光学仪器 聚焦 重复性 
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