P波段900W脉冲功率LDMOS器件的研制  

Research and Manufacture of the P-Band 900 W Pulsed Power LDMOS

作　　者：胡顺欣[1] 何先良[1] 王强栋[1] 梁东升[1] 李飞[1] 邓建国[1] 郎秀兰[1] 李亮[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第十三研究所,石家庄050051

出　　处：《微电子学》2015年第4期541-544,共4页Microelectronics

摘　　要：设计并制作了一种50V窄脉冲工作的P波段大功率横向扩散金属-氧化物-半导体场效应晶体管(LDMOSFET)。在P波段、工作电压50V、工作脉宽100μs和占空比10%的工作条件下,该器件的带内输出功率大于900 W,功率增益大于18dB,漏极效率大于50%,抗驻波失配比大于5∶1,表现出了良好的性能。A kind of radio frequency power laterally diffused metal oxide semiconductor field effect transistor （LDMOSFET） was designed and manufactured. The results showed that the device presented good performances of the output power of more than 900 W with at least 18 dB power gain, more than 50% drain efficiency and endured over 5 ： 1 VSWR at P-band under the conditions of 50 V working voltage,100 9s pulse width and 10% duty cycle.

关 键 词：LDMOS 硅 P波段 窄脉冲 

分 类 号：TN385[电子电信—物理电子学] TN386.1