ZnO磁控溅射靶材及其在玻璃镀膜中的应用  

作　　者：杨晔 兰品军 王木钦 温艳玲 朱永明 李佳[2] 宋伟杰[2] 

机构地区：[1]宁波森利电子材料有限公司 [2]中国科学院宁波材料技术与工程研究所

出　　处：《建筑玻璃与工业玻璃》2017年第4期28-33,共6页Architectural Glass and Functional Glass

摘　　要：近年来，磁控溅射沉积的ZnO薄膜在光电器件镀膜领域得到广泛的应用，ZnO磁控溅射靶材是沉积ZnO薄膜的关键耗材。本文针对镀膜行业发展对ZnO陶瓷溅射靶材的制造所提出的挑战，从优质材料制备的角度出发，介绍宁波森利电子材料有限公司在ZnO陶瓷溅射靶材领域所开展的工作。此外，针对在光伏、显示器件以及智能玻璃镀膜中的应用，简要介绍镀膜过程中影响ZnO薄膜光电性能的主要参数、ZnO薄膜结晶质量与载流子浓度的调控手段以及作为替代ITO的透明电极应用在智能玻璃器件中的可行性。

关 键 词：磁控溅射沉积 ZNO薄膜 玻璃镀膜 溅射靶材 应用 ZnO陶瓷 光电器件 智能玻璃 

分 类 号：TN304.21[电子电信—物理电子学]