PVD表面工程技术  

作　　者：薄鑫涛 

出　　处：《热处理》2018年第4期59-60,共2页Heat Treatment

摘　　要：PVD（Physical Vapor Deposition）物理气相沉积是一种真空条件下采用物理方法,将固体或液体材料表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体（或等离子体）过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能薄膜的技术。主要方法包括真空蒸镀（加热方式有电阻、电子束、激光、离子束和高频感应等加热）、溅射沉积（2-3-4极、磁控、射频磁控和离子团束等溅射沉积）、离子镀（电阻加热离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀、磁控溅射离子镀、离子束辅助沉积、反应离子镀和离子团束沉积等）.

关 键 词：表面工程技术 空心阴极离子镀 磁控溅射离子镀 离子束辅助沉积 PVD 物理气相沉积 等离子体 加热方式 

分 类 号：TG174.4[金属学及工艺—金属表面处理]