激光直写系统在ASIC器件制作中的应用  

作　　者：侯德胜[1] 冯伯儒[1] 等 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所

出　　处：《世界产品与技术》2002年第10期71-72,共2页

摘　　要：激光直写系统是制作光刻掩模和ASIC器件的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室引进了男内第一台激光直写系统，利用这台系统，通过高精度激光束在光致抗蚀剂上扫描曝光，能够把设计图形直接转移到掩模版或芯片上，本文介绍激光直写系统在ASIC器件制作中的应用和具体工艺。

关 键 词：激光直写系统 ASIC器件 光刻掩模 专用集成电路 

分 类 号：TN492[电子电信—微电子学与固体电子学]