光刻掩模

作品数：26被引量：44H指数：4
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极紫外光刻掩模相位型缺陷检测方法被引量：3
《光学学报》2023年第1期91-101,共11页成维 李思坤 王向朝 
国家自然科学基金(U22A2070);国家科技重大专项(2017ZX02101004-002)。
提出了一种基于空间像的极紫外光刻掩模相位型缺陷检测方法,用于检测多层膜相位型缺陷的类型、位置和表面形貌。缺陷的类型、位置和表面形貌均会影响含缺陷掩模的空间像的分布。因此,采用深度学习模型构建含缺陷掩模的空间像与待测缺陷...
关键词：测量 光刻 极紫外光刻 掩模缺陷检测 空间像 深度学习 
极紫外光刻掩模相位型缺陷的形貌重建方法被引量：5
《光学学报》2020年第10期14-28,共15页成维 李思坤 王向朝 张子南 
国家科技重大专项(2012ZX02702001-006);上海市自然科学基金(17ZR1434100)。
提出了一种极紫外光刻掩模多层膜相位型缺陷的形貌重建方法。采用表面与底部形貌参数表征相位型缺陷的三维形貌;采用原子力显微镜测量缺陷表面形貌参数;采用傅里叶叠层成像技术重建含缺陷的空白掩模空间像复振幅;采用卷积神经网络与多...
关键词：衍射 极紫外光刻 掩模缺陷 相位恢复 深度学习 
缺陷对极紫外掩模多层结构反射场的扰动研究被引量：2
《半导体光电》2020年第2期217-222,共6页李冠楠 刘立拓 周维虎 石俊凯 陈晓梅 
国家自然科学基金项目(51905528);国家重点研发计划项目(2017YFF0107300);中国科学院前沿科学重点研究计划项目(QYZDY-SSW-JSC008)。
极紫外光刻掩模具有特殊的多层膜堆叠的反射式结构,在工艺制造过程中极易产生缺陷,引起多层膜结构变形,从而对掩模反射场产生干扰。这种掩模缺陷是制约极紫外光刻技术发展的难题之一。建立了含有缺陷的极紫外掩模多层膜结构模型,在此基...
关键词：极紫外光刻掩模 相位缺陷 时域有限差分法 扰动分析 
基于改进型结构分解的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法被引量：9
《光学学报》2018年第1期29-39,共11页张恒 李思坤 王向朝 
国家自然科学基金(61474129);上海市自然科学基金资助项目(17ZR1434100)
对极紫外光刻掩模的吸收层和多层膜分别建模,将二者组合以实现对具有复杂图形分布的掩模衍射谱的快速精确仿真。对存在图形偏移的吸收层,采用扩展的边界脉冲修正法进行仿真。对无缺陷及含缺陷的多层膜,分别采用等效膜层法和基于单平面...
关键词：衍射 极紫外光刻 掩模衍射谱仿真 结构分解法 掩模优化 缺陷补偿 
32nm节点极紫外光刻掩模的集成研制被引量：9
《光学学报》2013年第10期320-326,共7页杜宇禅 李海亮 史丽娜 李春 谢常青 
国家自然科学基金(61107032;61275170)
报道了国内首块用于极紫外投影光刻系统的6inch(1inch=2.54cm)标准极紫外光刻掩模。论述了32nm节点6inch标准极紫外光刻掩模的设计方案,及掩模衬底、反射层、吸收层材料的工艺特性研究,对缺陷控制及提高掩模效率的方法进行了分析。运用...
关键词：X射线光学 极紫外投影光刻 掩模 电子束光刻 32 nm节点 时域有限差分法 
市场和产品
《微纳电子技术》2010年第1期64-64,共1页王玲 王淑华 
关键词：产品 CMOS兼容 机械寿命 可靠性要求 光刻掩模 投影设备 SIGE 专利技术 
电子束直写中X射线光刻掩模的热形变研究
《微细加工技术》2007年第5期10-13,25,共5页尚鸿雁 王永坤 
对X射线掩模电子束制备图形过程建立三维有限元模型,提出用热流密度等效法简化瞬态热应力计算,得到了X射线掩模在电子束直写过程中的瞬态热形变。结果表明,掩模面内形变在直写过程中出现振荡变化,最大值为8.24 nm,方向背离电子束光照中...
关键词：面内形变 面外形变 电子束直写 图形制备 有限元分析 
二元光学器件光刻掩模的设计与制作被引量：2
《长春理工大学学报（自然科学版）》2007年第4期40-43,共4页孙艳军 陈宇 曹子维 何显宗 
针对红外折/衍混合光学系统中八台阶二元光学器件以及套刻制作的特点,采用相位转化的方法对光刻掩模进行了结构参数的优化设计。探讨了掩模制作的工艺过程,采用激光直写方法制作出三块不同参数的掩模。同时,对关键技术环节进行了研究,...
关键词：二元光学器件 掩模 激光直写 
MEMS的微细加工技术被引量：6
《机床与液压》2006年第5期15-19,共5页戴亚春 周建忠 王匀 马欣涛 
江苏大学高级人才启动基金项目
介绍了目前比较前沿的几种微型腔的机械加工方法:光刻掩模、高能束刻蚀(激光刻蚀)和LIGA技术等加工方法。对这些技术的发展趋势进行了展望。指出微器件的推广和应用,是和微器件的加工方法密不可分的,特别是随着激光加工技术在微机械加...
关键词：微型机械 微成形 MEMS 光刻掩模 激光刻蚀 LIGA 激光加工技术 
光刻掩模的静电放电损伤及其防护被引量：2
《中国集成电路》2005年第10期90-94,89,共6页管伟 Larry Levit 
半导体集成电路制造中,光刻工艺是整个制造过程中的核心技术。而光刻掩模(Reticle,Photomask)则为光刻技术中的最为关键的部件。随着半导体生产技术的不断提升,光刻掩模对静电放电敏感度也越来越高,如何防护光刻掩模避免遭受静电放电的...
关键词：静电放电敏感度 光刻掩模 防护 半导体生产技术 电损伤 集成电路制造 光刻技术 制造过程 光刻工艺 
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