何显宗

作品数：1被引量：2H指数：1
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发文主题：掩模二元光学器件光刻掩模激光直写反射率更多>>
发文领域：理学机械工程电子电信更多>>
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二元光学器件光刻掩模的设计与制作被引量：2
《长春理工大学学报（自然科学版）》2007年第4期40-43,共4页孙艳军 陈宇 曹子维 何显宗 
针对红外折/衍混合光学系统中八台阶二元光学器件以及套刻制作的特点,采用相位转化的方法对光刻掩模进行了结构参数的优化设计。探讨了掩模制作的工艺过程,采用激光直写方法制作出三块不同参数的掩模。同时,对关键技术环节进行了研究,...
关键词：二元光学器件 掩模 激光直写 
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