月度信息化新闻精选  

出　　处：《信息系统工程》2021年第8期F0002-F0002,F0003,共2页

摘　　要：去年国内市场规模同比增长约40% 光刻胶迎来国产替代机会窗口光刻胶,是一种感光材料,在光的照射下发生化学反应,利用溶解度的变化将光学的信号转化为化学信号,通过曝光、显影及刻蚀等一系列步骤实现电路从掩模转移到基片上。国此光刻胶的性能决定了集成电路的集成度,进而决定了芯片的运行速度、功耗等关键参数,所以系集成电路制造工艺中最关键的材料。

关 键 词：光刻胶 集成电路制造工艺 掩模 机会窗口 信号转化 化学信号 运行速度 感光材料 

分 类 号：TN3[电子电信—物理电子学]