集成电路制造工艺

作品数：70被引量：74H指数：6
导出分析报告
相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>
相关作者：陈岚李志刚阮文彪张兴黄如更多>>
相关机构：上海华虹(集团)有限公司上海集成电路研发中心中国科学院微电子研究所上海华力微电子有限公司更多>>
相关期刊：更多>>
相关基金：中央高校基本科研业务费专项资金教育部高等学校骨干教师资助计划国家自然科学基金重庆城市管理职业学院教改课题更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-10
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
5E教学模式结合虚拟仿真平台在职业本科实践教学中的应用研究
《信息与电脑》2025年第5期221-223,共3页胡燕儒 樊宏鹏 孙志敏 
甘肃省2024年大中小学课程教材专项研究课题“电子信息类职业本科专业课教材中课程思政元素融入与实施路径研究”(项目编号:GSJC-Y2024096);甘肃省教育科学“十四五”规划2024年度课题“职业本科现场工程师人才培养模式研究”(项目编号:GS[2024]GHB1391)。
受昂贵设备、苛刻操作环境等条件的限制,在职业本科的集成电路制造工艺基础等课程中,实训很难在实际生产环境中开展。这不仅不利于教师进行实训教学,还无法培养学生的实践技能和创新思维。借助虚拟仿真平台,学生能够在模拟环境中进行实...
关键词：虚拟仿真平台 5E教学模式 集成电路制造工艺 实践教学 
《半导体器件与集成电路设计基础》课程实践教学改革——场效应管中Si纳米线湿法腐蚀
《广州化工》2025年第1期208-211,共4页张杰 范瑜 
硅湿法腐蚀工艺作为硅基集成电路制造中最基础、最关键技术之一,已被广泛地应用于实际生产中。利用硅各向异性湿法腐蚀,我们设计制作了场效应管中Si纳米线沟道。该实践教学覆盖了《半导体器件与集成电路设计基础》课程中多个重要知识点...
关键词：半导体器件 集成电路制造工艺 实践课程 场效应管 硅湿法腐蚀 
集成电路制造工艺的质量管理分析
《中国科技期刊数据库 工业A》2024年第8期107-110,共4页陈省城 
在全球信息技术高速发展的今天,集成电路已成为推动现代社会进步的核心力量。作为电子设备的“大脑”,集成电路的制造工艺复杂精细,涉及到微观尺度的物理、化学和材料科学。因此,集成电路制造过程中的质量管理不仅是保证产品可靠性的基...
关键词：集成电路 制造工艺 质量管理 
集成电路制造工艺中的质量管理分析
《集成电路应用》2024年第4期64-65,共2页陈建波 
阐述集成电路制造工艺中的电路互联技术、3D集成、倒装封装工艺、气密性封装技术特点。提出制造工艺中的质量管理措施,包括加强生产设备管理、工装夹具管理、加强流程管理、质量体系管理。
关键词：集成电路 制造工艺 封装技术 质量管理 
集成电路制造工艺的质量管理分析被引量：1
《集成电路应用》2023年第11期28-29,共2页贺京峰 
阐述集成电路制造中的工艺状况,探讨集成电路制造工艺的质量管理的优化策略,包括晶圆表面的缺陷和杂质的清洗工艺,制程参数的稳定和优化、制程控制系统的统计过程控制、设备的精度和稳定性控制。
关键词：集成电路制造 制造工艺 制程优化 SPC 
“集成电路工艺”虚拟实践平台建设与教学实践被引量：1
《实验室科学》2023年第1期111-114,共4页汪家奇 刘勐 申人升 梁红伟 
2019年教育部产学合作协同育人项目(第二批)(项目编号:201902044014)。
在集成电路(IC)工艺的实验教学中,互补金属氧化物半导体(CMOS)集成电路加工工艺实验教学是学生加深对半导体工艺理解的重要环节。由于微电子行业的实验场所、时间以及实验设备的各种限制,真正的实际操作非常有限,导致实验教学效果并不...
关键词：互补金属氧化物半导体 集成电路制造工艺 虚拟实践平台 实验教学 
集成电路制造工艺的质量管理分析被引量：2
《集成电路应用》2022年第6期38-40,共3页王柱 
阐述集成电路制造工艺技术,包括微细加工技术、电路互联技术、集成电路后道制造工艺技术,探讨集成电路制造工艺质量管理中的问题和应对措施。
关键词：集成电路 制造工艺 质量管理 
化学气相沉积技术在先进CMOS集成电路制造中的应用与发展被引量：2
《智能物联技术》2022年第1期1-7,共7页倪金玉 LEE ChoongHyun 何慧凯 赵毅 
浙江省“领雁”研发攻关计划,“面向图像应用的感存算融合芯片研究”(No.2022C01098);科技创新2030-“新一代人工智能”重大项目(批准号:2020AAA0109001);中央高校基本科研业务费专项资金资助(批准号:2020XZZX005-06)。
随着CMOS集成电路晶体管尺寸不断微缩及其制造工艺的日益复杂,对化学气相沉积CVD薄膜制备工艺的要求越来越高。本文主要研究了用于介质间隙填充的流CVD技术和用于SiGe选择性外延的亚常压CVD技术,重点介绍了它们的工艺原理和方法,以及薄...
关键词：CMOS集成电路制造工艺 介质间隙填充 流化学气相沉积 选择性外延 亚常压化学气相沉积 
月度信息化新闻精选
《信息系统工程》2021年第8期F0002-F0002,F0003,共2页
去年国内市场规模同比增长约40% 光刻胶迎来国产替代机会窗口光刻胶,是一种感光材料,在光的照射下发生化学反应,利用溶解度的变化将光学的信号转化为化学信号,通过曝光、显影及刻蚀等一系列步骤实现电路从掩模转移到基片上。国此光刻胶...
关键词：光刻胶 集成电路制造工艺 掩模 机会窗口 信号转化 化学信号 运行速度 感光材料 
高职院校“集成电路制造工艺”课程思政探索与实践被引量：1
《陕西国防职教研究》2020年第4期27-30,共4页张喜凤 屈宝鹏 
陕西国防工业职业技术学院2018年科研计划项目:基于Unity3D的CMOS集成电路工艺流程AR建模及其3D打印实现(项目编号:Gfy18-14)。
课程思政是“三全育人”的重要组成部分,要全面推进高校的课程思政的建设。通过对陕西国防工业职业技术学院“集成电路制造工艺”课程思政的分析和思考,提出了课程中思政元素的设计方向和主要思政元素的思政策略,并对具体实施过程的思...
关键词：课程思政 集成电路制造工艺 教学策略 
全选清除导出
共7页<1234567>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部