氩气对高功率MPCVD制备金刚石膜的影响  

作　　者：王蒙 翁俊[1] 刘繁[1] 黎振坤 鲁振海 

机构地区：[1]武汉工程大学等离子体化学与新材料湖北省重点实验室,湖北武汉430205

出　　处：《化学工程与装备》2021年第10期5-6,共2页Chemical Engineering & Equipment

摘　　要：本文使用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法在传统的CH4/H2氛围下沉积金刚石膜,加入辅助气体氩气提升金刚石膜质量,探究低浓度氩气对金刚石膜的影响。

关 键 词：金刚石膜 氩气 微波等离子体化学气相沉积 晶粒尺寸 

分 类 号：TQ163[化学工程—高温制品工业] TB383.2[一般工业技术—材料科学与工程]