磁控溅射防锈MoS_2薄膜沉积工艺研究  

STUDY OF MAGNETRON SPUTTERING ANTI RUST MoS_2 THIN FILMS DEPOSITION TECHNOLOGY

作　　者：陈焘[1] 郭等柱[1] 万志华[1] 白芝芳[1] 

机构地区：[1]兰州物理研究所,甘肃兰州730000

出　　处：《真空与低温》2002年第4期241-245,共5页Vacuum and Cryogenics

摘　　要：介绍了磁控溅射制备防锈MoS2薄膜的沉积工艺,同时对影响膜层性能的几个因素进行了初步的探讨,并且制备了防锈性能优良的MoS2薄膜样品。The depositon technology of magnetron sputtering anti rust MoS\-2 thin films is introduced. The several factors that affected the properties of films are studied initially. The excellent anti rust MoS\-2 thin film samples are prepared.\;

关 键 词：磁控溅射 MOS2薄膜 沉积工艺 二硫化钼 防锈薄膜 固体润滑剂 

分 类 号：TH117.22[机械工程—机械设计及理论] TB4[一般工业技术]