SPOS技术在半导体CMP制程中的应用  

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作  者:顾茂健 王思玲 徐剑青 Greg Pokrajac David Nicoli 

机构地区:[1]上海双健现代药物技术公司 [2]Particle Sizing Systems

出  处:《集成电路应用》2003年第3期39-42,共4页Application of IC

摘  要:使用单粒子光学传感技术进行粒径分析,具有高分辨率和精确度的特点,将其与激光衍射等整体检测技术进行比较,应用实例,说明了单粒子光学传感技术对半导体CMP制程的必要性。

关 键 词:SPOS技术 CMP 单粒子光学传感技术 高分辨率 激光衍射 化学机械研磨 粒径 

分 类 号:TN305[电子电信—物理电子学]

 

参考文献:

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