金刚石薄膜的阴极荧光特性研究  

作　　者：于三[1] 金曾孙[1] 吕宪义[1] 邹广田[1] 

机构地区：[1]吉林大学原子与分子物理研究所,长春130023

出　　处：《科学通报》1992年第1期86-89,共4页Chinese Science Bulletin

摘　　要：自从Setaka等人利用CVD方法在硅等非金刚石衬底上合成出具有清晰结晶晶面的金刚石晶体及多晶金刚石薄膜以来,金刚石的合成技术在近几年取得了迅速的发展。同时,气相生长金刚石的材料性质研究及应用研究也取得了较大的进展。

关 键 词：薄膜 金刚石 阴极荧光 CVD法 

分 类 号：O484.4[理学—固体物理]