热释电薄膜单片式非致冷红外焦平面阵列的研究  

Research of the pyroelectric thin film monolithic UFPA

作　　者：刘少波[1] 李艳秋[1] 刘梅冬[2] 

机构地区：[1]中国科学院电工研究所微纳加工部,北京100080 [2]华中科技大学电子科学与技术系,湖北武汉430074

出　　处：《微纳电子技术》2003年第11期9-12,共4页Micronanoelectronic Technology

基　　金：中国科学院"引进国外杰出人才基金"2001年资助项目;国家自然科学基金重大研究计划资助项目(90201028);国家"863"计划资助项目(2003AA404150)

摘　　要：采用改进的溶胶-凝胶(sol-gel)技术,在Pt/Ti/SiO2/Si3N4/SiO2/Si基片上研制出具有优良热释电性能的BST,PLT和PZT铁电薄膜,它们是制备单片式非致冷红外焦平面阵列的优选探测材料。解决了制备热释电薄膜单片式非致冷红外焦平面阵列的关键技术,成功研制出8元、9元、10元线列和8×8元阵列,器件电压响应率(RV)达8.6×103V/W。By a modified sol-gel technique,the BST,PLT and PZT ferroelectric thin films with excel-lent pyroelectricity have been derived on the Pt/Ti/SiO 2 /Si 3 N 4 /SiO 2 /Si substrates.They are the chief can-didate sensitive materials as UFPA pixels.The key fabrication technology of pyroelectric thin film UFPA has been achieved.The8,9,10linear and8×8array of UFPA have been successfully prepared.Their figure of merits(FOM)of voltage detectivity(R V )is about 8.6×10 3 V/W.

关 键 词：单片式 非致冷红外焦平面阵列 热释电 铁电薄膜 sol-gel技术 刻蚀 

分 类 号：TN216[电子电信—物理电子学]