光刻机曝光技术演进  

作　　者：白杉 

出　　处：《集成电路应用》2003年第12期3-6,共4页Application of IC

摘　　要：1 引言目前,集成电路已经从60年代的每个芯片上仅几十个器件发展到现在的每个芯片上可包含约10亿个器件,其增长过程遵从一个我们称之为摩尔定律的规律,即集成度每3年提高4倍。这一增长速度不仅导致了半导体市场在过去30年中以平均每年约15%的速度增长,而且对现代经济、国防和社会也产生了巨大的影响。

关 键 词：集成电路 光刻机 光学曝光 准分子激光 极紫外曝光 限角散射电子束投影曝光 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]