原子光刻用超高真空蒸发设备的设计和建立  

Design and construction of an ultrahigh vacuum evaporation equipment for atom photolithography

作　　者：陈献忠[1] 姚汉民[1] 陈旭南[1] 李展[1] 陈元培[1] 高洪涛[1] 石建平[1] 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川成都610209

出　　处：《光电工程》2004年第1期5-8,共4页Opto-Electronic Engineering

基　　金：中国科学院创新基金资助项目(A2K0009);中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室开放基金课题

摘　　要：原子光刻是原子光学在微细加工技术领域的新应用.在对各种材料和真空泵性能综合考虑的基础上,设计并建立了一台用于原子光刻的超高真空蒸发设备.主要设计参数为:极限真空度和工作真空度分别为2.0×10-6 Pa 和1.0×10-5 Pa,原子源温度在300～1850℃范围内连续可调.初步运行结果表明极限真空度优于设计参数,温度连续可调.Atom photolithography is a new application of atom optics in microfabriaction technical field. An ultrahigh vacuum evaporation equipment used for atom photolithography is designed and constructed. Its main parameters are : limit vacuum and operating vacuum 2.0E-6 Pa and 1.0E-5 Pa, respectively, the temperature of atom source tunable within a range of 300~1850 degree Celsius. Initial operation results show that limit vacuum of the equipment is better than the design parameter and its temperature is continuously tunable.

关 键 词：原子光刻 超高真空蒸发设备 设计 原子光学 微细加工技术 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]