扫描电子显微镜在半导体工艺中的应用技术研究  

The Applied Technique Study of Scanning Electric Microscope During Semi-conductor Process

作　　者：王嵩宇[1] 徐宁[1] 袁凯[1] 苏秀娣[1] 许仲德[1] 李宏[1] 林厚军[1] 

机构地区：[1]东北微电子研究所,沈阳110032

出　　处：《微处理机》2004年第3期10-11,共2页Microprocessors

摘　　要：针对半导体工艺的需要 ,本文提供了利用扫描电子显微镜进行分析的机理及采用的关键技术手段。Aim at the demand of the semi conductor technics,this text provided the principle make use of the electronic microscope to proceed the analysis and key technique of using.

关 键 词：扫描电子显微镜 解理 缀饰 

分 类 号：TN3[电子电信—物理电子学]