云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 国家出国留学基金(21851030)

国家出国留学基金(21851030): 作品数：2被引量：6H指数：1; 导出分析报告; 相关作者：杜晓松更多>>; 相关机构：电子科技大学更多>>; 相关期刊：《电子显微学报》《物理学报》更多>>; 相关主题：MBE氧化铬分子束外延技术反射谱电子密度更多>>; 相关领域：理学机械工程电子电信更多>>

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同步辐射光刻的X射线反射谱表征: 《电子显微学报》2006年第5期368-372,共5页杜晓松 Hak S Hibma T Rogojanu O C Struth B; 国家出国留学基金(批准号:21851030);荷兰高等教育国际合作组织(Nuffic)资助项目; 采用X射线反射(XRR)谱对同步辐射导致的氧化物薄膜的刻蚀进行了在位测试,结果表明波长为0.154nm的单色X光在室温下可对MgO和Cr2O3产生轻微的刻蚀。与文献中大量报道的同步辐射X射线光刻及烧蚀不同,这是单色X射线光刻的首次报道。尽管刻...; 关键词：同步辐射光刻 X射线反射谱

氧化铬外延薄膜的x射线研究被引量：6: 《物理学报》2004年第10期3510-3514,共5页杜晓松 S.Hak O.C.Rogojanu T.Hibma; 国家出国留学基金 (批准号 :2 185 10 3 0 );荷兰高等教育国际合作组织 (Nuffic)资助的课题~~; 采用分子束外延技术 (MBE)在MgO(0 0 1)基板上沉积了氧化铬薄膜 ,并利用x射线衍射 (XRD)和x射线反射谱(XRR)对薄膜的晶体结构进行了表征 .θ— 2θ扫描和倒易空间图 (RSM)揭示出薄膜为单相c轴外延生长 ,晶体结构为体心正交 ,晶胞常数a ,...; 关键词：外延薄膜电子密度晶体结构氧化铬倒易空间等同空位 MBE 反射谱分子束外延技术

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