国家自然科学基金(60576029)

作品数：2被引量：1H指数：1
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Effect of Pt Addition on the Stress of NiSi Film Formed on Si (100)
《Journal of Semiconductors》2007年第5期635-639,共5页黄巍 茹国平 Detavernier C Van Meirhaeghe R L 蒋玉龙 屈新萍 李炳宗 
国家自然科学基金(批准号:60576029,90607018);科技部中国-比利时科技合作项目(批准号:B/06086/01);上海应用材料研究发展基金(批准号:0514);上海市自然科学基金(批准号:05ZR14017)资助项目~~
In order to clarify the effect of pt addition on the stress of NiSi film, in situ stress measurements were taken to evaluate the stress evolution during heating and cooling treatment of Ni1- x Ptx Si alloy films with ...
关键词：NiSi Ni1- x Ptx Si stress 
Study of NiSi/Si Interface by Cross-Section Transmission Electron Microscopy被引量：1
《Journal of Semiconductors》2006年第2期223-228,共6页蒋玉龙 茹国平 屈新萍 李炳宗 
国家自然科学基金(批准号:60576029);上海应用材料研究与发展基金(批准号:0514);上海市自然科学基金(批准号:05ZR14017);中国-比利时佛拉芒大区科技合作计划(批准号:B/06086/01)资助项目~~
Different silicidation processes are employed to form NiSi,and the NiSi/Si interface corresponding to each process is studied by cross-section transmission electron microscopy （XTEM）. With the sputter deposition of ...
关键词：contact interface NISI nickel silieide solid-state reaction rapid thermal processing 
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