浙江省自然科学基金(0804201051)

作品数：1被引量：3H指数：1
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相关作者：门传玲吴国栋曹敏朱德明更多>>
相关机构：中国科学院宁波材料技术与工程研究所上海理工大学更多>>
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相关主题：超低压SIO2薄膜晶体管双电层低压侧更多>>
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基于P掺杂SiO_2为栅介质的超低压侧栅薄膜晶体管被引量：3
《物理学报》2013年第11期457-461,共5页朱德明 门传玲 曹敏 吴国栋 
浙江省自然科学基金(批准号:0804201051)资助的课题~~
在室温下利用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)制备的颗粒膜P掺杂SiO2为栅介质,使用磁控溅射方法利用一步掩模法制备出一种新型结构的侧栅薄膜晶体管.由于侧栅薄膜晶体管具有独特的结构,在射频磁控溅射过程中,仅仅利用一块镍掩模板,...
关键词：P掺杂SiO2 侧栅薄膜晶体管 双电层(EDL) 超低压 
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