原子层外延

作品数:21被引量:16H指数:2
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相关机构:中国科学院信越半导体株式会社华中科技大学华南师范大学更多>>
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应用原子层外延技术分析Turbo-Disk MOCVD外延生长模式
《液晶与显示》2004年第2期128-133,共6页王浩 廖常俊 范广涵 刘颂豪 郑树文 李述体 郭志友 孙慧卿 陈贵楚 陈炼辉 
国家科技攻关计划资助项目 (No.0 0 0 68) ;国家"973"资助项目 ( 0 0 1CB3 0 93 0 2 ) ;广东省重大科技专项资助项目 (No .2 0 0 3A10 3 0 40 5 )
应用原子层外延与分子层外延的理论研究了Turbo DiskMOCVD外延生长过程 ,发现生长主要发生在衬底表面的台阶处 ,当通过控制生长参数达到优质外延时 ,实际上是一种亚原子外延过程 。
关键词:原子层外延法 分子层外延法 金属有机化学气相淀积 参数调整 外延设备 ALE反应装置 
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