低K材料

作品数：21被引量：32H指数：4
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低k材料的化学机械抛光研究被引量：1
《微纳电子技术》2008年第5期293-297,共5页周国安 种宝春 
阐述了低k材料在IC电路中的作用及其性质,以SiO2、SiOF、SiOCSP、SiOCNSP、Si-OCSO五种材料为研究对象,分析了低k材料与Cu互连工艺的相互联系和作用。在Sikder和Kumar提供的声发射信号(AE)的在线监测图的基础上比较和分析了五种材料的...
关键词：化学机械抛光 声发射信号在线检测 普莱斯顿方程 低K材料 表面形貌 
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