偏压

作品数：2967被引量：6962H指数：33
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基体偏压对高功率脉冲磁控溅射CrN薄膜结构及阻氢性能的影响被引量：1
《真空科学与技术学报》2021年第11期1046-1052,共7页张辉 王晓波 张炜鑫 巩春志 田修波 
氢在金属材料中主要做原子扩散,而在陶瓷材料中主要做分子扩散,因此渗透率相对于金属材料比较低,因此可以通过在金属材料表面溅射一层陶瓷薄膜,降低氢的扩散系数,从而起到保护基体材料的效果。本文采用高功率脉冲磁控溅射技术在316L不...
关键词：CRN 高功率脉冲磁控溅射 偏压 阻氢 高温抗氧化 
偏压对自源笼形空心阴极放电制备Si-DLC薄膜结构和性能的影响被引量：6
《中国表面工程》2019年第3期69-79,共11页孙薇薇 田修波 李慕勤 吴明忠 巩春志 田钦文 
国家自然科学基金(11675047,51811530059);黑龙江省自然科学基金(E2015039)~~
针对利用笼形空心阴极放电在大工件表面制备DLC薄膜时,笼网内大工件操作困难、大工件影响放电的问题,开发了自源笼形空心阴极放电方法,在不同偏压(-300~0 V)条件下于Si(100)表面制备了Si-DLC薄膜,考察了偏压对Si-DLC薄膜结构和性能的影...
关键词：自源笼形空心阴极放电 Si-DLC 偏压 显微结构 力学性能 摩擦学性能 
基片偏压模式对高功率脉冲磁控溅射CrN薄膜结构及成分影响研究被引量：10
《稀有金属材料与工程》2013年第2期405-409,共5页吴忠振 田修波 巩春志 杨士勤 
国家自然科学基金资助(10975041;10905013)
针对高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)的缺点,结合沉积技术(PBII&D)技术,提出了一种新的处理方法——高功率脉冲磁控放电等离子体离子注入与沉积技术(HPPMS-PIID)。本实验采用该技术在不锈钢基体上制备了CrN薄膜,分别采用3种偏压模式:无偏压、...
关键词：高功率脉冲磁控溅射 等离子体离子注入与沉积 偏压 氮化铬 结构和成分 
工件靶台复合加速离子注入系统中的靶台偏压效应
《核聚变与等离子体物理》2012年第3期260-264,共5页朱宗涛 巩春志 汪志健 田修波 杨士勤 Ricky Fu 
国家自然科学基金资助项目(10975041;10905013)
采用PIC/MCC模型,通过数值模拟的方法研究了束线离子和靶台复合加速离子注入过程中靶台偏压大小对注入过程离子动力学行为的影响,重点考察了不同偏压作用下离子的注入能量、注入剂量、注入角度以及注入范围的变化。结果表明,靶台上施加...
关键词：离子注入 胞中粒子模拟 复合加速 偏压 
偏压对磁控溅射沉积铌膜表面性能的影响被引量：8
《真空科学与技术学报》2008年第1期67-71,共5页崔江涛 田修波 杨士勤 
国家自然科学基金(No.50373007,No.10575025);新世纪优秀人才支持计划;哈尔滨科学后备带头人基金(No.2004AFXXJ013)
利用直流磁控溅射在钢基体上沉积了铌薄膜,分别采用扫描电镜、原子力显微镜、X射线衍射仪和电化学分析仪研究了不同偏压下铌膜表面形貌、相结构以及耐蚀性。实验结果表明:在低于300 V偏压下,偏压的变化并没有使得铌膜的晶体结构发生改变...
关键词：偏压 铌膜 结构 耐蚀性 
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