椭圆偏振光谱

作品数：85被引量：136H指数：6
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高压退火气氛对溶液法制备a-IGZO薄膜光学特性的影响
《微电子学》2018年第5期690-694,共5页李勇男 向超 殷波 潘东 汤猛 钟传杰 
国家自然科学基金资助项目(60776056)
利用椭圆偏振光谱仪和原子力显微镜,研究了相同温度下不同退火气氛及压强处理对溶液旋涂法制备a-IGZO光学特性和薄膜微观结构的影响。实验结果表明,当退火气氛为O_2时,压强由0.1MPa增加到1.5MPa,薄膜的光学带隙由3.23eV增大到3.31eV,表...
关键词：退火气氛 椭圆偏振光谱 溶液法 a-IGZO薄膜 
SiGe材料的组分表征研究与退火分析被引量：1
《微电子学》2008年第5期660-662,683,共4页冯世娟 李秋俊 田岗纪之 财满镇名 
采用固相扩散法在n-Si(100)衬底上制备了两组退火条件不同的SixGe1-x薄膜。利用椭圆偏振光谱和二次离子质谱技术,对薄膜的厚度及组分分布进行了表征,两者具有较好的一致性。分析了退火对薄膜厚度、组分和应变的影响。成功得到了完全驰...
关键词：SixGe1-x薄膜 椭圆偏振光谱 二次离子质谱 退火 组分分布 
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