田岗纪之

作品数：2被引量：2H指数：1
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发文主题：椭圆偏振光谱厚度光谱研究椭圆偏振SIGE更多>>
发文领域：理学电子电信更多>>
发文期刊：《压电与声光》《微电子学》更多>>
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SiGe材料的组分表征研究与退火分析被引量：1
《微电子学》2008年第5期660-662,683,共4页冯世娟 李秋俊 田岗纪之 财满镇名 
采用固相扩散法在n-Si(100)衬底上制备了两组退火条件不同的SixGe1-x薄膜。利用椭圆偏振光谱和二次离子质谱技术,对薄膜的厚度及组分分布进行了表征,两者具有较好的一致性。分析了退火对薄膜厚度、组分和应变的影响。成功得到了完全驰...
关键词：SixGe1-x薄膜 椭圆偏振光谱 二次离子质谱 退火 组分分布 
SiGe薄膜材料的椭圆偏振光谱研究被引量：1
《压电与声光》2007年第6期632-633,637,共3页李秋俊 冯世娟 田岗纪之 财满镇明 
采用椭圆偏振光谱(SE)对一系列SiGe样品进行了研究。确定了SixGe1-x层的厚度和组分;对不均匀的SixGe1-x层,沿厚度方向进行了组分梯度的研究,其结果与二次离子质谱(SIMS)的测试有较好的一致性;成功地表征了器件级绝缘体上的硅锗(SGOI)样...
关键词：SIGE 椭圆偏振光谱 组分 厚度 
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