卢瑟福背散射

作品数:59被引量:66H指数:4
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相关机构:北京大学中国科学院复旦大学四川大学更多>>
相关期刊:《微细加工技术》《南华大学学报(自然科学版)》《原子核物理评论》《功能材料》更多>>
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卢瑟福背散射谱和红外干涉反射谱研究冷注入锗离子对单晶硅的损伤
《稀有金属》2009年第6期879-883,共5页肖清华 王敬欣 
国家自然科学基金项目(60706001)资助
主要研究锗离子在77 K温度下的冷注入对单晶硅片表面的预非晶化效果,并与室温注入情形予以对比。卢瑟福背散射谱(RBS)和红外干涉反射谱被用于对非晶层的研究。实验表明,冷注入要比室温注入的退沟道效应更为显著,反射率降低更为明显,意...
关键词:  冷注入 损伤 卢瑟福背散射谱 红外干涉反射谱 
GaAs抛光表面损伤的RBS研究被引量:4
《稀有金属》1998年第4期317-320,共4页董国全 万群 陈坚邦 
本文以卢瑟福离子背散射技术(RBS)检测了半绝缘GaAs(100)化学机械抛光表面的微损伤状况,并以α台阶仪测量了抛光表面的粗糙度。研究了以胶体SiO2和NaOCl溶液的混合液对GaAs进行化学机械抛光方法中主要工艺...
关键词:抛光 砷化镓 晶片表面 表面损伤 卢瑟福背散射 
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