纳米制造技术

作品数：58被引量：81H指数：4
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相关领域：一般工业技术电子电信更多>>
相关作者：肖燕潘革波刘冲张德远崔岩更多>>
相关机构：中国科学院大连理工大学分子印记公司上海交通大学更多>>
相关期刊：《电子世界》《商业观察》《现代制造》《电子质量》更多>>
相关基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划陕西省教育厅科研计划项目西安工业大学校长基金更多>>
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低能离子束诱导Ag表面纳米金字塔微结构被引量：3
《光子学报》2014年第1期82-86,共5页陈智利 刘卫国 张锦 王蒙皎 
欧盟第七科技框架玛丽居里计划项目(No.247644);国防基础科研计划(No.A0920110016);陕西省教育厅科学研究项目(No.12JK0469);西安工业大学校长基金(No.XAGDXJJ1002)资助
利用离子柬溅射诱导实验方法，在单晶Si（100）基底上辅助沉积银膜，研究了低能Ar＋离子束30。入射时，不同离子束能量和束流密度以及基底温度对Ag纳米结构的影响．结果表明：在较低基底温度下（32～100℃）辅助沉积银膜，膜层表面会呈...
关键词：微纳米制造技术 低能离子束刻蚀 自组装纳米结构 离子束辅助 银金字塔微结构 
低能离子束诱导单晶硅点状纳米结构与光学性能研究被引量：5
《光学学报》2013年第9期237-242,共6页陈智利 刘卫国 
欧盟第七科技框架玛丽居里计划项目(247644);陕西省教育厅科学研究项目(12JK0469);广东省科技厅高新区发展引导专项(2011B010700101);西安工业大学校长基金(XAGDXJJ1002)
使用微波回旋共振离子源,研究了低能Ar+束在不同入射角度下对旋转单晶硅(100)表面的刻蚀效果及其光学性能。结果表明:样品旋转、离子束能量为1000eV、束流密度为265μA/cm2、刻蚀时间为60min时,在不同入射角度下,刻蚀后的样品表面可形...
关键词：表面光学 微纳米制造技术 自组织纳米结构 低能离子束刻蚀 表面形貌 光学透射率 
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