多层布线技术

作品数：15被引量：9H指数：2
导出分析报告
相关领域：电子电信更多>>
相关作者：王海张亚金张沈军王正义郭芳更多>>
相关机构：中华人民共和国工业和信息化部中国电子科技集团第十三研究所电子工业部石家庄铁道学院更多>>
相关期刊：《微电子技术》《半导体技术》《集成电路通讯》《混合微电子技术》更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

结果分析中...
选择条件：
  • 期刊=Journal of Semiconductorsx
共 条 记 录，以下是1-1
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
适用于0.8μmCMOS VLSI的双层金属布线技术研究
《Journal of Semiconductors》1997年第3期218-222,共5页徐秋霞 海潮和 陈焕章 赵玉印 李建勋 
多层金属有线互连技术是VLSI工艺中最重要和关键的技术之一．本文系统地研究了用效0．8μmCMOSVLSI的双层金属布线工艺技术，特别是对双层金属布线层间介质的平坦化、接触孔和通孔的低阻欧姆接触及可靠的金属互连等关键工艺进行了分析...
关键词：多层布线技术 VLSI CMOS 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部