互补金属氧化物半导体工艺

作品数:24被引量:37H指数:4
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相关作者:王志功朱恩王立果吴微赵文虎更多>>
相关机构:东南大学杭州电子科技大学天津大学电子科技大学更多>>
相关期刊:《固体电子学研究与进展》《光通信研究》《传感器与微系统》《红外与毫米波学报》更多>>
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一种高线性度CMOS混频器的设计被引量:1
《半导体技术》2007年第2期117-120,共4页吴明明 叶水驰 
国家973科研计划项目(51312)
采用线性化技术改进的混频器结构提高了线性度。采用TSMC 0.18μm RF CMOS模型进行了电路仿真。仿真结果:在电源电压为1.8 V时,输入三阶截断点(IIP3)为10.3 dBm,输入1 dB压缩点(P-1dB)为-3.5 dBm,增益为9.2 dB,单边带噪声系数为17...
关键词:双平衡混频器 互补金属氧化物半导体工艺 射频集成电路 
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