云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 化学机械研磨

化学机械研磨: 作品数：85被引量：47H指数：3; 导出分析报告; 相关领域：电子电信更多>>; 相关作者：陈岚徐勤志曹鹤刘建云戴文俊更多>>; 相关机构：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司上海华力微电子有限公司上海华虹宏力半导体制造有限公司中芯国际集成电路制造(北京)有限公司更多>>; 相关期刊：更多>>; 相关基金：国家科技重大专项国家自然科学基金沈阳市科技计划项目国家中长期科技发展规划重大专项更多>>

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CMP过程多变量免疫预测R2R控制方法: 《仪器仪表学报》2012年第11期2586-2593,共8页王亮胡静涛; 国家科技重大专项(2009ZX02008-003);国家科技重大专项(2009ZX02001-005);国家自然科学青年基金(61104093);973计划前期研究专项课题(2010CB334705)资助项目; 为了解决多输入多输出和产品质量不易在线测量的化学机械研磨(chemical mechanical polishing,CMP)过程R2R(run-to-run)控制的难题,提出了一种基于贝叶斯最小二乘支持向量机(Bayes least squares support vector machine,BLS-SVM)预测...; 关键词：化学机械研磨 R2R控制最小二乘支持向量机贝叶斯证据框架克隆选择预测控制

基于灰色模型的CMP过程免疫预测R2R控制被引量：3: 《仪器仪表学报》2012年第2期306-314,共9页王亮胡静涛; 国家科技重大专项(2009ZX02001-005;2009ZX02008-003);沈阳市科技计划(108155-2-00)资助项目; 针对化学机械研磨(chemical mechanical polishing,CMP)过程非线性、时变、产品质量不能在线测量的特性,为了提高CMP过程R2R(Rum-to-Run)控制的精度,提出了一种基于灰色模型和克隆选择免疫算法的CMP过程R2R预测控制器GI-PR2R。通过离线...; 关键词：化学机械研磨灰色模型克隆选择预测控制 Run—to-Run控制

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