云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 化学机械研磨

化学机械研磨: 作品数：85被引量：47H指数：3; 导出分析报告; 相关领域：电子电信更多>>; 相关作者：陈岚徐勤志曹鹤刘建云戴文俊更多>>; 相关机构：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司上海华力微电子有限公司上海华虹宏力半导体制造有限公司中芯国际集成电路制造(北京)有限公司更多>>; 相关期刊：更多>>; 相关基金：国家科技重大专项国家自然科学基金沈阳市科技计划项目国家中长期科技发展规划重大专项更多>>

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KLEBOSOLⅡ1730：胶粒二氧化硅研磨液: 《世界电子元器件》2012年第5期35-35,共1页; 陶氏化学公司旗下的陶氏电子材料事业群推出量产化的KLEBOSOLⅡ1730，这是一种应用于化学机械研磨（CMP）工艺的胶粒二氧化硅研磨液。在将此研磨液应用于层间电介质（ILD）时，已经显示出可以将缺陷率减低50％，与此前的KLEBOSOLⅡ1630...; 关键词：二氧化硅研磨液胶粒陶氏化学公司化学机械研磨电子材料电介质缺陷率

罗门哈斯增加在台投资扩建亚太区制造厂: 《世界电子元器件》2008年第8期58-58,共1页; 向全球半导体行业提供化学机械研磨（CMP）技术的领先者罗门哈斯电子材料公司旗下研磨技术事业部近日宣布，增加对其位于台湾新竹的亚太区研磨垫制造工厂的投资。这笔投资旨在加快公司的产能扩张速度，以满足亚洲半导体制造客户日益增...; 关键词：制造厂亚太区投资罗门哈斯电子材料公司研磨技术扩建化学机械研磨半导体行业

罗门哈斯扩展高级化学机械研磨VISIONPAD系列: 《世界电子元器件》2007年第8期60-60,共1页; 罗门哈斯电子材料公司CMP技术事业部近日宣布其VisionPad研磨垫系列又增添了两款新品。这两款产品可提供低生产缺陷率、极高的研磨能力和更长的使用寿命。; 关键词：化学机械研磨 AD系列罗门哈斯电子材料公司 CMP技术使用寿命研磨能力缺陷率

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