计算机系列

作品数：66被引量：18H指数：2
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相关机构：中国科学院微电子研究所山东电力高等专科学校国防科学技术大学阜阳师范学院更多>>
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中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程回顾与现状被引量：6
《微细加工技术》2006年第1期1-2,共2页陈宝钦 
　　中国的微光刻技术(包括光掩模制造技术和光刻技术)伴随着平面工艺技术的诞生逐渐发展起来,从1965年自主成功地研制出硅平面晶体管开始算起到2005年是我国集成电路诞生和发展的四十年,也是我国微光刻技术诞生和发展的四十年.大体上...
关键词：平面晶体管 半导体技术 历程回顾 光刻技术 半导体制造 科技发展规划 封锁条件 应用物理 计算机系列 纳米加工 
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