硅外延片

作品数：64被引量：74H指数：5
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改善硅外延片电阻率和厚度一致性分析被引量：3
《集成电路应用》2022年第1期54-55,共2页张晓博 
阐述硅外延片在电阻率和厚度一致性的问题,改善其一致性外延片的制备方法,包括装入衬底片、衬底气相抛光、变流量吹扫、本征生长、外延生长的工艺流程和工艺参数。
关键词：硅外延片 一致性 电阻率 
银笛科技硅外延片项目上月正式开工
《集成电路应用》2004年第5期38-38,共1页
关键词：上海 银笛科技有限公司 半导体硅外延片 中国 硅材料 市场 
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