氟化非晶碳薄膜

作品数：23被引量：80H指数：7
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低介电常数氟化非晶碳薄膜热稳定性的研究被引量：1
《微细加工技术》2005年第2期51-54,62,共5页刘雄飞 张云芳 肖剑荣 李幼真 
以CF4和CH4的混合气体为源气体,以Ar为工作气体,用射频等离子体增强化学气相沉积法(rf-PECVD)制备了氟化非晶碳(a-C:F)薄膜,并在Ar气氛中对不同温度下沉积的薄膜进行了退火处理,以考察其热稳定性.用椭偏仪测量了薄膜的厚度,比较了退火...
关键词：RF-PECVD a-C:F薄膜 热稳定性 
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