半导体膜

作品数:47被引量:33H指数:3
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相关机构:株式会社半导体能源研究所夏普株式会社精工爱普生株式会社三菱电机株式会社更多>>
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  • 期刊=Journal of Semiconductorsx
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CdF_2半导体膜中电子-表面声子强耦合对极化子性质的影响被引量:7
《Journal of Semiconductors》2000年第3期225-231,共7页额尔敦朝鲁 肖景林 李树深 
国家自然科学基金!(批准号 :6973 60 1 0 );中国科学院激发态物理开放研究实验室科学基金
采用改进的 Huybrechts线性组合算符和变分方法 ,研究了半导体膜内电子与表面光学声子强耦合、与体纵光学声子弱耦合对极化子性质的影响 ,得到了极化子的有效质量和自陷能随膜厚的变化规律 .对 Cd F2 半导体 。
关键词:电子-声子耦合 极化子 CdF2 半导体薄膜 
淀积参数对ITO膜电阻率的影响被引量:1
《Journal of Semiconductors》1993年第3期160-165,共6页张怀武 许武毅 过壁君 
本文研究了基体偏压、氧分压强和淀积后退火对ITO膜电阻率的影响,通过比较理论结果和实验结果,弄清了这几个参数影响ITO膜电阻率的机理,并确定出最佳镀制参数。
关键词:半导体膜 氧化铟锡 电阻率 淀积 
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