P阱

作品数:13被引量:7H指数:2
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3200 V双p阱终端VDMOS击穿特性仿真研究
《半导体光电》2023年第6期837-844,共8页李尧 王爱玲 王奋强 蓝俊 牛瑞霞 张鹏杰 张栩莹 吴回州 刘良朋 
国家自然科学基金项目(61905102);甘肃省自然科学基金项目(20JR5RA385);甘肃省教育厅创新能力提升项目(2019A-035)。
基于场限环终端技术理论,提出了一种具有双p阱结构的垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(VDMOS)。通过数值模拟软件分别仿真了p阱各项参数和漂移区掺杂浓度与击穿电压的关系,提取器件击穿时的表面电场并分析其击穿机理。研究结果表...
关键词:VDMOS P阱 漂移区掺杂浓度 击穿电压 表面电场分布 
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