TA2O5

作品数:135被引量:377H指数:10
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Ta_2O_5-NaF-C体系制备TaC晶须的机理被引量:1
《粉末冶金材料科学与工程》2016年第1期65-71,共7页王骏 李国栋 熊翔 张磊 
国家重点基础研究发展规划("973"计划)资助项目(2011CB605805)
利用Ta2O5-NaF-C混合粉末为原料,采用碳热还原法在石墨表面制备不同形态的碳化钽晶须,利用SEM和XRD对晶须的形貌、结构与成分进行观察与分析,采用热力学计算与实验验证相结合的方法研究不同形貌碳化钽晶须的生长机制。结果表明:TaC晶须...
关键词:碳热还原 TaC晶须 Ta2O5-NaF-C体系 形貌 生长机制 
Ta_2O_5薄膜制备的研究现状及进展被引量:5
《材料导报》2010年第1期25-30,共6页陈胜龙 杨建广 高亮 
国家自然科学基金(50804056);中国博士后基金项目(20080431028)
Ta2O5薄膜具有很好的电学性能和光学性能,制备方法种类繁多,如溶胶-凝胶法(Sol-gel)、化学气相沉积法、电子束蒸发技术、溅射法、Ta层阳极氧化或热氧化法、离子辅助沉积法(IBAD)、原子层沉积法(ALD)等。评述了现有各种制备方法的优缺点...
关键词:TA2O5 薄膜 制备方法 
化学气相沉积法制备Ta_2O_5薄膜的研究进展被引量:6
《功能材料》2006年第4期511-514,共4页闫志巧 熊翔 肖鹏 黄伯云 
国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2002AA305207)
Ta2O5是重要的介电材料和光波导材料。从前驱体的选择方面综述了化学气相沉积法制备Ta2O5薄膜的研究进展,说明了五卤化钽和Ta金属有机化合物对CVD过程的影响,对这两类前驱体的优缺点进行了比较和评述,讨论了Ta2O5的生成机理,并对其发展...
关键词:化学气相沉积 TA2O5 薄膜 五卤化钽 金属有机化合物 
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