A-C:F

作品数：23被引量：19H指数：2
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Electrical Properties of Plasma Deposited Low-Dielectric-Constant Fluorinated Amorphous Carbon Films
《Plasma Science and Technology》2006年第6期724-726,共3页吴振宇 杨银堂 汪家友 
supported by the Key Laboratory Foundation of Electron Devices Reliability Physics and Applications(No.51433020205DZ01);the Xi'an Applied Materials Innovation Fund(No.XA-AM-200501)
Fluorinated amorphous carbon （a-C：F） films were deposited at room temperature using C4Fs and CH4 as precursor gases by electron cyclotron resonance chemical vapour deposition （ECR-CVD）. Chemical structures were a...
关键词：electrical properties conduction behaviour chemical vapour deposition a-C：F 
The Structure and I-V Property of a-C:F Thin Film
《Plasma Science and Technology》2001年第5期947-952,共6页黄峰 康健 叶超 杨慎东 程珊华 宁兆元 
Fluorinated amorphous carbon (a-C:F) thin film has been deposited by microwave electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition (ECR-CVD) using C6H6 and CHF3 as source gases. The result of x-ray photoelec...
关键词：The Structure and I-V Property of a-C CHF CF 
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