CVD技术

作品数：68被引量：79H指数：5
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TEOS-O_3系常压CVD技术
《微电子技术》1994年第4期16-22,共7页松浦正纯 林出吉生 陈学珍 
关键词：多层布线 化学汽相沉积 四乙氧基硅烷 臭氧 
H_2O-TEOS等离子CVD技术
《微电子技术》1994年第4期34-43,共10页谷村雄二 缘奋 
关键词：LSI 集成电路 布线 化学汽相沉积 等离子体 
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