超微量分析

作品数：42被引量：80H指数：4
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相关机构：中国科学院军事医学科学院北京师范大学苏州医学院更多>>
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光刻胶之关键技术被引量：1
《集成电路应用》2003年第6期75-76,共2页潘家立 陶玉柱 
光刻胶长期以来即被广泛地运用在各类产业中。以电子工业及IC工业为例,由于光刻胶具备感光成像之特性,可将微细线路刻画于各种基板上,对于计算机电路板、液晶显示面板及集成电路器件等产品的微影光刻加工程序,是不可或缺的关键材料。近...
关键词：光刻胶 配方 超洁净 超微量分析 应用检测 
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