吕幼华

作品数:1被引量:5H指数:1
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供职机构:杭州电子科技大学更多>>
发文主题:二极管抗ESD互连线静电损伤短路点更多>>
发文领域:电子电信更多>>
发文期刊:《Journal of Semiconductors》更多>>
所获基金:浙江省自然科学基金更多>>
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集成抗ESD二极管的SOI LIGBT/LDMOS器件结构及其制作方法被引量:5
《Journal of Semiconductors》2006年第z1期279-282,共4页张海鹏 汪沁 孙玲玲 高明煜 李文钧 吕幼华 刘国华 汪洁 
国家自然科学基金(批准号:60306003)及浙江省自然科学基金(批准号:y104599)资助项目
为探索与国内VLSI制造工艺兼容的新型SOI LIGBT/LDMOS器件与PIC的设计理论和工艺实现方法,首次提出含有抗ESD二极管的集成SOI LIGBT/LDMOS器件截面结构和版图结构,并根据器件结构给出了阻性负载时器件的大信号等效电路.探讨了该结构器件...
关键词:ESD SOI LIGBT/LDMOS 器件结构 工艺 PIC 
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