曾志锋

作品数：1被引量：0H指数：0
导出分析报告
供职机构：武汉大学物理科学与技术学院更多>>
发文主题：表面形貌TIO_2薄膜富积二氧化钛薄膜溅射法制备更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《武汉大学学报（理学版）》更多>>
所获基金：国家自然科学基金更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-1
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
射频溅射法制备掺铂TiO_2薄膜的基本性质
《武汉大学学报（理学版）》2004年第1期51-54,共4页何永华 于国萍 魏正和 曾志锋 
国家自然科学基金资助项目(59871033)
用射频反应溅射法制备了掺铂的TiO2薄膜.用X射线衍射仪(XRD),紫外 可见(UV vis)光谱仪,电子扫描显微电镜(SEM)和X光电子能谱分析仪(XPS)对薄膜的基本性质进行了表征.研究结果表明:掺铂可以显著促进锐钛矿相的生长;TiO2薄膜在紫外的吸收...
关键词：射频溅射法 制备 掺铂 二氧化钛薄膜 富积 表面形貌 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部