沈文杰

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硅外延生长反应腔内外延反应过程的数值仿真建模及实验研究
《机械工程学报》2024年第5期209-218,共10页邓世伟 沈文杰 陈宇宏 白天 梅德庆 汪延成 
国家自然科学基金(52175522);浙江省重点研发计划(2020C01034,2022C01041)资助项目。
硅外延片是大规模集成电路、半导体器件等的基础功能材料,是通过外延反应在单晶硅片上生长均匀的外延薄层。外延层的厚度和电阻率的均匀性控制是硅外延生长的关键技术难题,其生长质量受反应腔室的结构与热流场设计影响较大。基于单片式...
关键词：硅外延层 外延生长 化学气相沉积 热流场 反应腔室 
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