云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 纪红

纪红: 作品数：1被引量：7H指数：1; 导出分析报告; 供职机构：天津理工大学更多>>; 发文主题：ALN薄膜SI溅射制备射频磁控反应溅射磁控溅射更多>>; 发文领域：理学更多>>; 发文期刊：《光电子．激光》更多>>; 所获基金：天津市自然科学基金国家自然科学基金更多>>

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Si(111)和Si(100)衬底上磁控反应溅射制备AlN薄膜被引量：7: 《光电子．激光》2010年第10期1524-1527,共4页纪红杨保和李翠平; 国家自然科学基金资助项目(50972105);天津市自然基金重点资助项目(09JCZDJC16500); 采用射频磁控反应溅射法在Si(111)和Si(100)两种衬底上制备了AlN薄膜,用X射线衍射(XRD)对AlN薄膜进行了表征,研究了衬底Si(111)、Si(100)取向以及N2百分比对AlN(002)薄膜c-轴择优取向的影响。实验结果表明,Si(100)较适合生长c-轴择优取...; 关键词：ALN薄膜射频磁控反应溅射择优取向晶格失配度